Tous les services de P.I.
Toutes les politiques
Toutes les activités de coopération
Toutes les sources d'information
Tout sur la P.I.
34, chemin des Colombettes CH-1211 Genève 20, Suisse
Venez nous rendre visite | Contactez-nous
Au sein de l'OMPI
Rechercher Rétablir
Interrogation > Dessins ou modèles industriels > Français > older > Archive
Revue annuelle du système de La Haye - Enregistrements internationaux de dessins et modèles industriels - 2016
Faits, chiffres et analyses détaillés concernant l'enregistrement international des dessins et modèles industriels.
Année de publication: 2016
Propriété intellectuelle : Faits et chiffres de l'OMPI 2015
Une vue d'ensemble de l'activité dans le domaine de la propriété intellectuelle sur la base des données statistiques annuelles les plus récentes disponibles auprès des offices nationaux et régionaux de la propriété intellectuelle et à l'OMPI.
Revue annuelle du système de La Haye - Enregistrements internationaux de dessins et modèles industriels - 2015
Année de publication: 2015
Guide pour l'enregistrement international des dessins et modèles industriels en vertu de l'Arrangement de La Haye
Ce guide s'adresse essentiellement aux déposants de demandes d'enregistrement international de marques et aux titulaires d'enregistrements internationaux de marques, ainsi qu'aux responsables des administrations compétentes des États membres de l'Union de La Haye. Il les oriente dans les différentes étapes de la procédure d'enregistrement international et explique les dispositions essentielles de l'Arrangement de La Haye.
Propriété intellectuelle : Faits et chiffres de l'OMPI 2014
Une vue d'ensemble de l'activité en matière de propriété intellectuelle fondée sur les données statistiques complètes les plus récentes.
Arrangement de La Haye concernant le dépôt international des dessins et modèles industriels
Règlement d'exécution commun (texte en vigueur le 1er janvier 2015)
Le système d'enregistrement international des dessins et modèles industriels est régi par cet Arrangement. L'objectif du système est double. Tout d'abord, il permet d'obtenir la protection des dessins et modèles industriels dans plusieurs États moyennant un dépôt unique effectué auprès du Bureau international de l'OMPI. Ensuite, le fait qu'un dépôt unique produit des effets dans plusieurs pays facilite considérablement la gestion de la protection obtenue.
Revue annuelle du système de La Haye - Enregistrements internationaux de dessins et modèles industriels - 2014
Année de publication: 2014
https://www.wipo.int/edocs-stg/pubdocs/fr/wipo_pub_501_10.pdf
Année de publication: 2013
Revue annuelle du système de La Haye - Enregistrements internationaux de dessins et modèles industriels - 2013
Revue annuelle du système de La Haye - Enregistrements internationaux des dessins et modèles industriels - 2012
Année de publication: 2012