االستعراض السنوي لنظام الهاي 2017 – ملخص عملي

التسجيل الدولي للتصاميم الصناعية

Autor(es): OMPI | Año de publicación: 2017

Tipo de licencia: Esta obra está sujeta a una licencia de Creative Commons del tipo Atribución 3.0 Organizaciones intergubernamentales.

يعرض هذا الملخص العملي التوجهات الرئيسية في استخدام نظام الهاي للتسجيل الدولي للتصاميم الصناعية الذي تديره الويبو.