À propos de la propriété intellectuelle Formation en propriété intellectuelle Respect de la propriété intellectuelle Sensibilisation à la propriété intellectuelle La propriété intellectuelle pour… Propriété intellectuelle et… Propriété intellectuelle et… Information relative aux brevets et à la technologie Information en matière de marques Information en matière de dessins et modèles Information en matière d’indications géographiques Information en matière de protection des obtentions végétales (UPOV) Lois, traités et jugements dans le domaine de la propriété intellectuelle Ressources relatives à la propriété intellectuelle Rapports sur la propriété intellectuelle Protection des brevets Protection des marques Protection des dessins et modèles Protection des indications géographiques Protection des obtentions végétales (UPOV) Règlement extrajudiciaire des litiges Solutions opérationnelles à l’intention des offices de propriété intellectuelle Paiement de services de propriété intellectuelle Décisions et négociations Coopération en matière de propriété intellectuelle Appui à l’innovation Partenariats public-privé Outils et services en matière d’intelligence artificielle L’Organisation Travailler à l’OMPI Responsabilité Brevets Marques Dessins et modèles Indications géographiques Droit d’auteur Secrets d’affaires Avenir de la propriété intellectuelle Académie de l’OMPI Ateliers et séminaires Application des droits de propriété intellectuelle WIPO ALERT Sensibilisation Journée mondiale de la propriété intellectuelle Magazine de l’OMPI Études de cas et exemples de réussite Actualités dans le domaine de la propriété intellectuelle Prix de l’OMPI Entreprises Femmes Universités Peuples autochtones Instances judiciaires Jeunesse Examinateurs Écosystèmes d’innovation Économie Financement Actifs incorporels Santé mondiale Changement climatique Politique en matière de concurrence Objectifs de développement durable Ressources génétiques, savoirs traditionnels et expressions culturelles traditionnelles Technologies de pointe Applications mobiles Sport Tourisme Musique Mode PATENTSCOPE Analyse de brevets Classification internationale des brevets Programme ARDI – Recherche pour l’innovation Programme ASPI – Information spécialisée en matière de brevets Base de données mondiale sur les marques Madrid Monitor Base de données Article 6ter Express Classification de Nice Classification de Vienne Base de données mondiale sur les dessins et modèles Bulletin des dessins et modèles internationaux Base de données Hague Express Classification de Locarno Base de données Lisbon Express Base de données mondiale sur les marques relative aux indications géographiques Base de données PLUTO sur les variétés végétales Base de données GENIE Traités administrés par l’OMPI WIPO Lex – lois, traités et jugements en matière de propriété intellectuelle Normes de l’OMPI Statistiques de propriété intellectuelle WIPO Pearl (Terminologie) Publications de l’OMPI Profils nationaux Centre de connaissances de l’OMPI Données essentielles sur l’investissement incorporel dans le monde Série de rapports de l’OMPI consacrés aux tendances technologiques Indice mondial de l’innovation Rapport sur la propriété intellectuelle dans le monde PCT – Le système international des brevets ePCT Budapest – Le système international de dépôt des micro-organismes Madrid – Le système international des marques eMadrid Article 6ter (armoiries, drapeaux, emblèmes nationaux) La Haye – Le système international des dessins et modèles industriels eHague Lisbonne – Le système d’enregistrement international des indications géographiques eLisbon UPOV PRISMA Médiation Arbitrage Procédure d’expertise Litiges relatifs aux noms de domaine Accès centralisé aux résultats de la recherche et de l’examen (WIPO CASE) Service d’accès numérique aux documents de priorité (DAS) WIPO Pay Compte courant auprès de l’OMPI Assemblées de l’OMPI Comités permanents Calendrier des réunions WIPO Webcast Documents officiels de l’OMPI Plan d’action de l’OMPI pour le développement Initiatives et projets sur mesure Forums de collaboration et dialogues Programme d’accélération pour l’innovation, la créativité et le développement La propriété intellectuelle en action Stratégies nationales de propriété intellectuelle Pôle de coopération Centres d’appui à la technologie et à l’innovation (CATI) Transfert de technologie Programme d’aide aux inventeurs WIPO GREEN Initiative PAT-INFORMED de l’OMPI Consortium pour des livres accessibles L’OMPI pour les créateurs WIPO Translate Speech-to-Text Assistant de classification États membres Observateurs Directeur général Activités par unité administrative Bureaux extérieurs Postes de fonctionnaires Postes de personnel affilié Achats Résultats et budget Rapports financiers Audit et supervision

Texte(s) princip(al)(aux) Texte(s) princip(al)(aux) Chinois 註冊外觀設計規則 (第522A章)      Anglais Registered Designs Rules (Chapter 522A)     

 

Ouvrir le PDF open_in_new

Registered Designs Rules (Chapter 522A)

 

Ouvrir le PDF open_in_new

Registered Designs Rules (Chapter 522A)

 

Ouvrir le PDF open_in_new

Reglamento sobre dibujos y modelos registrados (Capítulo 522A)

 

Ouvrir le PDF open_in_new

Règles relatives aux dessins et modèles enregistrés (chapitre 522A)

 

Ouvrir le PDF open_in_new

註冊外觀設計規則 (第522A章)

Texte(s) supplémentaire(s) Page de couverture d’une notification de l’OMC (3 texte(s)) Page de couverture d’une notification de l’OMC (3 texte(s)) Français Règles relatives aux dessins et modèles enregistrés (chapitre 522A) Espagnol Reglamento sobre dibujos y modelos registrados (Capítulo 522A) Anglais Registered Designs Rules (Chapter 522A)

 

Ouvrir le PDF open_in_new

Registered Designs Rules (Chapter 522A)

 

Ouvrir le PDF open_in_new

Reglamento sobre dibujos y modelos registrados (Capítulo 522A)

 

Ouvrir le PDF open_in_new

Règles relatives aux dessins et modèles enregistrés (chapitre 522A)

Législation Remplace (1 texte(s)) Remplace (1 texte(s))

• Règles relatives aux dessins et modèles enregistrés (chapitre 522A) (HK103)

Est remplacé(e) par (1 texte(s)) Est remplacé(e) par (1 texte(s))

• Règles relatives aux dessins et modèles enregistrés, (chapitre 522A, telles que modifiées jusqu’à L.N. 2 de 2024) (HK234)