Système de La Haye : Nouveaux webinaires pour le premier trimestre de 2025
16 janvier 2025
Les inscriptions sont désormais ouvertes pour une nouvelle série passionnante de webinaires interactifs sur le système de La Haye. Ne manquez pas cette occasion unique d’explorer des sujets clés qui vous permettront de naviguer dans l’univers de la protection internationale des dessins et modèles.
Que vous soyez novice en matière de protection des dessins et modèles ou que vous cherchiez à affiner votre stratégie, ces sessions sont conçues pour vous aider à tirer pleinement parti des capacités du système de La Haye et à optimiser les avantages qu’il offre pour sécuriser et protéger vos dessins et modèles dans plusieurs ressorts juridiques. Venez assister à des discussions animées par des spécialistes, bénéficier de conseils pratiques et découvrir les dernières nouveautés afin de renforcer votre stratégie en matière de protection des dessins et modèles.
Faciliter la protection internationale des dessins et modèles grâce au système de La Haye
Découvrez comment le système de La Haye simplifie la procédure relative à la protection des droits sur les dessins et modèles dans plusieurs ressorts juridiques au moyen d’une seule demande internationale. Au cours de cette session, vous découvrirez l’importance de la protection des dessins et modèles, les principales caractéristiques et les principaux avantages du système, et comprendrez qu’il offre une solution simple, économique et efficace pour protéger vos dessins et modèles dans le monde entier.
- En anglais : 15 janvier 2025 (16 heures – 17 heures, heure de Genève)
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- En français : 22 janvier 2025 (11 heures – midi, heure de Genève)
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- En espagnol : 29 janvier 2025 (16 heures – 17 heures, heure de Genève)
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En savoir plus sur le système de La Haye : outils et ressources pour vous aider
Découvrez les outils, guides et ressources essentiels qui rendent la navigation dans le système de La Haye simple et efficace. Cette session donne un aperçu pratique de tout ce que l’OMPI offre pour vous aider à tirer le meilleur parti de la protection internationale des dessins et modèles. Que vous soyez novice en matière de système de La Haye ou que vous cherchiez à optimiser votre approche, cette session vous apportera les connaissances et les outils nécessaires à votre réussite.
- En anglais : 12 février 2025 (16 heures – 17 heures, heure de Genève)
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- En français : 19 février 2025 (11 heures – midi, heure de Genève)
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- En espagnol : 26 février 2025 (16 heures – 17 heures, heure de Genève)
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Guide étape par étape du dépôt d’une demande d’enregistrement international de dessin ou modèle
Rejoignez-nous pour un webinaire complet au cours duquel nous vous guiderons à travers les différentes étapes de la procédure de dépôt d’une demande d’enregistrement de dessin ou modèle dans le cadre du système de La Haye. Découvrez concrètement comment tirer parti du système pour protéger efficacement vos dessins et modèles. Nous mettrons en évidence les pièges et irrégularités les plus courants et présenterons des stratégies pour vous aider à les éviter ou à les corriger. Ne manquez pas cette occasion d’améliorer vos connaissances sur l’utilisation du système de La Haye pour protéger vos dessins et modèles à l’échelle mondiale.
- En anglais : 12 mars 2025 (16 heures – 17 heures, heure de Genève)
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- En français : 19 mars 2025 (11 heures – midi, heure de Genève)
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- En espagnol : 26 mars 2025 (16 heures – 17 heures, heure de Genève)
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L’USPTO comme invité spécial
En réponse au succès de notre webinaire de décembre dernier, l’USPTO sera de nouveau invité pour une nouvelle session! Découvrez ce à quoi vous pouvez vous attendre lors du dépôt d’une demande d’enregistrement de dessin ou modèle dans le cadre du système de La Haye aux États-Unis d’Amérique et bénéficiez d’explications approfondies de la part de l’USPTO sur les questions essentielles en matière de dépôt et sur les exigences de fond particulières en vigueur aux États-Unis d’Amérique à cet égard. Ce webinaire est indispensable pour toute personne qui envisage de désigner les États-Unis d’Amérique dans sa demande selon le système de La Haye!
- En anglais : (heure de Genève)
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Le système de La Haye du point de vue d’une praticienne avec Tracy-Gene Durkin
Rejoignez Tracy-Gene Durkin, responsable du groupe de pratique mécanique et design de Sterne Kessler et membre du groupe de pratique marques et protection des marques, qui partagera son savoir-faire dans l’utilisation du système de La Haye pour des clients tels qu’Apple et Pepsi Co. Réputée pour ses compétences en matière de droit des dessins et modèles, Tracy présentera des exemples concrets, des pratiques recommandées et des stratégies pour assurer la protection internationale des dessins et modèles dans le cadre du système de La Haye.
- En anglais : (heure de Genève)
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Comment participer?
Sélectionnez le(s) prochains(s) webinaire(s) qui vous intéresse(nt) et remplissez le(s) formulaire(s) d’inscription en ligne. Nous vous enverrons ensuite un message électronique de confirmation avec un lien vers le webinaire. Le jour du webinaire, il vous suffira de cliquer sur le lien pour y participer.
Si vous préférez, vous pouvez utiliser votre téléphone pour vous connecter et écouter l’exposé. Nous vous communiquerons des instructions de connexion par téléphone dans le message électronique de confirmation.
Si vous avez manqué un webinaire…
Vous pouvez écouter des enregistrements de nos anciens webinaires quand vous le souhaitez.
Poser des questions ou suggérer des thèmes
Si vous avez des questions ou si vous souhaitez suggérer un thème pour un futur webinaire, n’hésitez pas à nous en faire part. Envoyez-nous vos commentaires ou demandes concernant le webinaire par l’intermédiaire de Contact Hague.
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Système de la Haye de l'OMPI – Le système d'enregistrement international des dessins et modèles
Le système de La Haye offre un mécanisme international unique permettant d'obtenir et de gérer les droits attachés aux dessins et modèles simultanément dans plus de 90 pays au moyen d'une seule demande, dans une seule langue et en payant une seule série de taxes.
