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Ley de Patentes de la República Popular de China (modificada por última vez por la Decisión de 25 de agosto de 2000 de la Comisión Permanente que modifica la Ley de Patentes de la República Popular de China), China
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Versión obsoleta
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Año de versión
2000
Fechas
Enmendado/a hasta:
25 de agosto de 2000
Entrada en vigor:
1 de abril de 1985
Adoptado/a:
12 de marzo de 1984
Tipo de texto
Principal legislación de PI
Materia
Patentes (Invenciones),
Modelos de utilidad,
Diseños industriales
Materia (secundaria)
Observancia de las leyes de PI y leyes conexas,
Organismo regulador de PI,
Métodos alternativos de solución de controversias (ADR)
Notas
Esta segunda revisión de la Ley de Patentes de China incorpora todas las enmiendas a la Decisión de 25 de agosto de 2000 que modifica la Ley de Patentes (la segunda enmienda).
Por las modificaciones introducidas por la segunda enmienda, véase:
-Artículos 1, 3, 6, 8, 10 a 11, 14, 16, 19-21, 23
-Artículos 36, 39-50, 52, 53, 55, 57-63, 66-68
En la notificación de China a la OMC de conformidad con el artículo 63.2 del Acuerdo sobre los ADPIC se establece lo siguiente:
'La Ley dispone que se pueden aplicar los dibujos y modelos industriales para ser protegidos como patente.
El artículo 66 de la Ley estipula las medidas provisionales que preceden al litigio.
Textos disponibles
Texto(s) principal(es)
Texto(s) principal(es)
Chino
中华人民共和国专利法 (修订至2000年8月25日全国人民代表大会常务委员会《关于修改〈中华人民共和国专利法〉的决定》; 中华人民共和国主席令第11号公布)
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Inglés
Patent Law of the People’s Republic of China (as amended by the Decision of August 25, 2000, of the
Standing Committee of the National People’s Congress on Amending the Patent Law of the People’s Republic of China)
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Legislación conexa
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Referencia del documento de la OMC
IP/N/1/CHN/I/1
N° WIPO Lex
CN022