Поделитесь своим мнением о Портале ИС ВОИС!

Fri Dec 11 08:40:00 CET 2020

Портал ИС ВОИС стал ключевой цифровой платформой для всех пользователей онлайновых услуг интеллектуальной собственности (ИС) ВОИС.

Мы бы хотели узнать ваше мнение о работе Портала ИС ВОИС и получить предложения по поводу его дальнейшего совершенствования.

Портал ИС — это универсальная платформа для управления портфелем ИС, так как он дает доступ более чем к 40 онлайновым услугам ИС ВОИС, таким как PATENTSCOPE, ePCT, Madrid Monitor, Глобальная база данных по брендам и Глобальная база данных по образцам, eHague и текущий счет в ВОИС.

Благодаря системе единого входа, простоте навигации, настраиваемой панели управления и встроенной системе сообщений и платежей взаимодействовать с ВОИС онлайн гораздо легче. Мы бы хотели расширить функционал панели управления, продолжать развитие системы учетной записи ВОИС и повысить эффективность поддержки пользователей того множества услуг ИС, которые мы предлагаем. Наша цель состоит в последовательном расширении спектра услуг и функций Портала ИС ВОИС в целях более эффективного обслуживания 1000+ ежедневных посетителей со всего мира. Мы знаем, что можем больше, и сейчас у вас есть возможность подсказать нам, как именно это следует делать!

Пройдите онлайновый опрос и расскажите, что вы думаете. Сроки участия в опросе продлены до 17 февраля. На его прохождение уйдет не более десяти минут.

Ваше мнение важно для нас.

Перейти к опросу пользователей Портала ИС ВОИС

Кто может принять участие?

Опрос предназначен для всех, кто пользовался Порталом ИС ВОИС и онлайновыми услугами ИС ВОИС в течение последнего года. Неважно, являетесь ли вы постоянным или новым пользователем, — ваше мнение важно для нас.

Как организован опрос?

Опрос проводится онлайн и может быть пройден на любом ПК или мобильном устройстве.

Как будут использоваться мои данные?

Гарантируется конфиденциальность и защита всех предоставленных персональных данных в соответствии с Политикой ВОИС по защите персональных данных и их конфиденциальности.