AtrásFecha de la sentencia8 de noviembre de 2023Órgano emisorIntellectual Property High Court of KoreaInstanciaInstancia de ApelaciónTipo de procedimientoJudicial (Contencioso Administrativo)MateriaPatentes (Invenciones)Parte demandante/recurrentePSK Co., Ltd.Parte demandadaCham Engineering Co., Ltd.Palabras clave
Patent,
Inventive step,
Level of the ordinarily skilled artisan,
IPTAB decision,
Plasma etching chamber
Sentencia/ResoluciónInglésIP High Court Decision, 2022Heo6587, dated November 8, 2023 PDFLegislación pertinente