عن الملكية الفكرية التدريب في مجال الملكية الفكرية إذكاء الاحترام للملكية الفكرية التوعية بالملكية الفكرية الملكية الفكرية لفائدة… الملكية الفكرية و… الملكية الفكرية في… معلومات البراءات والتكنولوجيا معلومات العلامات التجارية معلومات التصاميم الصناعية معلومات المؤشرات الجغرافية معلومات الأصناف النباتية (الأوبوف) القوانين والمعاهدات والأحكام القضائية المتعلقة بالملكية الفكرية مراجع الملكية الفكرية تقارير الملكية الفكرية حماية البراءات حماية العلامات التجارية حماية التصاميم الصناعية حماية المؤشرات الجغرافية حماية الأصناف النباتية (الأوبوف) تسوية المنازعات المتعلقة بالملكية الفكرية حلول الأعمال التجارية لمكاتب الملكية الفكرية دفع ثمن خدمات الملكية الفكرية هيئات صنع القرار والتفاوض التعاون التنموي دعم الابتكار الشراكات بين القطاعين العام والخاص أدوات وخدمات الذكاء الاصطناعي المنظمة العمل مع الويبو المساءلة البراءات العلامات التجارية التصاميم الصناعية المؤشرات الجغرافية حق المؤلف الأسرار التجارية أكاديمية الويبو الندوات وحلقات العمل إنفاذ الملكية الفكرية WIPO ALERT إذكاء الوعي اليوم العالمي للملكية الفكرية مجلة الويبو دراسات حالة وقصص ناجحة في مجال الملكية الفكرية أخبار الملكية الفكرية جوائز الويبو الأعمال الجامعات الشعوب الأصلية الأجهزة القضائية الموارد الوراثية والمعارف التقليدية وأشكال التعبير الثقافي التقليدي الاقتصاد المساواة بين الجنسين الصحة العالمية تغير المناخ سياسة المنافسة أهداف التنمية المستدامة التكنولوجيات الحدودية التطبيقات المحمولة الرياضة السياحة ركن البراءات تحليلات البراءات التصنيف الدولي للبراءات أَردي – البحث لأغراض الابتكار أَردي – البحث لأغراض الابتكار قاعدة البيانات العالمية للعلامات مرصد مدريد قاعدة بيانات المادة 6(ثالثاً) تصنيف نيس تصنيف فيينا قاعدة البيانات العالمية للتصاميم نشرة التصاميم الدولية قاعدة بيانات Hague Express تصنيف لوكارنو قاعدة بيانات Lisbon Express قاعدة البيانات العالمية للعلامات الخاصة بالمؤشرات الجغرافية قاعدة بيانات الأصناف النباتية (PLUTO) قاعدة بيانات الأجناس والأنواع (GENIE) المعاهدات التي تديرها الويبو ويبو لكس - القوانين والمعاهدات والأحكام القضائية المتعلقة بالملكية الفكرية معايير الويبو إحصاءات الملكية الفكرية ويبو بورل (المصطلحات) منشورات الويبو البيانات القطرية الخاصة بالملكية الفكرية مركز الويبو للمعارف الاتجاهات التكنولوجية للويبو مؤشر الابتكار العالمي التقرير العالمي للملكية الفكرية معاهدة التعاون بشأن البراءات – نظام البراءات الدولي ePCT بودابست – نظام الإيداع الدولي للكائنات الدقيقة مدريد – النظام الدولي للعلامات التجارية eMadrid الحماية بموجب المادة 6(ثالثاً) (الشعارات الشرفية، الأعلام، شعارات الدول) لاهاي – النظام الدولي للتصاميم eHague لشبونة – النظام الدولي لتسميات المنشأ والمؤشرات الجغرافية eLisbon UPOV PRISMA UPOV e-PVP Administration UPOV e-PVP DUS Exchange الوساطة التحكيم قرارات الخبراء المنازعات المتعلقة بأسماء الحقول نظام النفاذ المركزي إلى نتائج البحث والفحص (CASE) خدمة النفاذ الرقمي (DAS) WIPO Pay الحساب الجاري لدى الويبو جمعيات الويبو اللجان الدائمة الجدول الزمني للاجتماعات WIPO Webcast وثائق الويبو الرسمية أجندة التنمية المساعدة التقنية مؤسسات التدريب في مجال الملكية الفكرية الدعم المتعلق بكوفيد-19 الاستراتيجيات الوطنية للملكية الفكرية المساعدة في مجالي السياسة والتشريع محور التعاون مراكز دعم التكنولوجيا والابتكار نقل التكنولوجيا برنامج مساعدة المخترعين WIPO GREEN WIPO's PAT-INFORMED اتحاد الكتب الميسّرة اتحاد الويبو للمبدعين WIPO Translate أداة تحويل الكلام إلى نص مساعد التصنيف الدول الأعضاء المراقبون المدير العام الأنشطة بحسب كل وحدة المكاتب الخارجية المناصب الشاغرة المشتريات النتائج والميزانية التقارير المالية الرقابة
Arabic English Spanish French Russian Chinese
القوانين المعاهدات الأحكام التصفح بحسب الاختصاص القضائي

Act (2020:543) Amending Act (1992:1685) on the Protection of Topographies for Semiconductor Products، السويد

عودة للخلف
أحدث إصدار في ويبو لِكس
التفاصيل التفاصيل سنة الإصدار 2020 تواريخ بدء النفاذ : 1 سبتمبر 2020 الاعتماد : 17 يونيو 2020 نوع النص قوانين الملكية الفكرية الرئيسية الموضوع تصاميم الدوائر المتكاملة الموضوع (فرعي) إنفاذ قوانين الملكية الفكرية والقوانين ذات الصلة

المواد المتاحة

النصوص الرئيسية النصوص ذات الصلة
النصوص الرئيسية النصوص الرئيسية بالسويدية Lag (2020:543) om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter         بالإنكليزية Act (2020:543) Amending Act (1992:1685) on the Protection of Topographies for Semiconductor Products        

This is an unofficial translation of the law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products. Should there be any differences between this translation and the authentic Swedish text, the authentic Swedish text will prevail.

Law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products

Issued on the 17th of June 2020

Article 91 Anyone who intentionally or by gross negligence commits an act which infringes the right pursuant to Article 2, is punishable for topography violation with a fine or imprisonment for up to two years.

If the violation was committed intentionally and is considered serious, the person is punishable for serious topography violation with imprisonment for a minimum of six months up to a maximum of six years. When assessing whether the violation is serious, particular consideration has to be given to whether the act concerned

1. has been preceded by particular planning, 2. was part of criminal activities conducted in an organised form, 3. was conducted on a large scale, 4. was otherwise of a particularly dangerous nature. Anyone who has violated an injunction issued with a penalty of a fine

pursuant to Article 9 b, must not be held liable for infringements covered by the injunction.

Responsibility is assigned under Chapter 23 of the Criminal Code for attempting to commit or preparation of topography violation or serious topography violation.

The prosecutor may initiate a prosecution for violations only if the prosecution is motivated for being in the public interest. Act (2020:543).

This Act enters into force on the 1 September 2020.

1 Latest version 2005:304. 1

1

Svensk författningssamling

Lag om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter

Utfärdad den 17 juni 2020

Enligt riksdagens beslut1 föreskrivs att 9 § lagen (1992:1685) om skydd för

kretsmönster för halvledarprodukter ska ha följande lydelse.

9 §2 Den som uppsåtligen eller av grov oaktsamhet vidtar en åtgärd som

innebär intrång i rätten enligt 2 § döms för kretsmönsterbrott till böter eller

fängelse i högst två år.

Om brottet begåtts uppsåtligen och är att anse som grovt, döms för grovt

kretsmönsterbrott till fängelse i lägst sex månader och högst sex år. Vid

bedömningen av om brottet är grovt ska det särskilt beaktas om gärningen

1. har föregåtts av särskild planering,

2. har utgjort ett led i en brottslighet som utövats i organiserad form,

3. har varit av större omfattning, eller

4. annars har varit av särskilt farlig art.

Den som har överträtt ett vitesförbud enligt 9 b § får inte dömas till ansvar

för intrång som omfattas av förbudet.

För försök eller förberedelse till kretsmönsterbrott eller grovt kretsmönster-

brott döms det till ansvar enligt 23 kap. brottsbalken.

Åklagaren får väcka åtal för brott endast om åtal är motiverat från allmän

synpunkt.

Denna lag träder i kraft den 1 september 2020.

På regeringens vägnar

MORGAN JOHANSSON

Liv Bernitz

(Justitiedepartementet)

1 Prop. 2019/20:149, bet. 2019/20:NU18, rskr. 2019/20:312. 2 Senaste lydelse 2005:304.

SFS 2020:543 Publicerad

den 18 juni 2020

النصوص الإضافية ورقة غلاف الإخطار الموجه إلى منظمة التجارة العالمية (3 نصوص) ورقة غلاف الإخطار الموجه إلى منظمة التجارة العالمية (3 نصوص) بالفرنسية Loi n° 2020:543 portant modification de la loi n°(1992:1685) sur la protection des topographies de produits semi-conducteurs  
بالإسبانية Ley N° 2020:543 sobre modificaciones al Ley N° 1992:1685 de la Protección de las Topografías de Productos Semiconductores  
بالإنكليزية Act (2020:543) Amending Act (1992:1685) on the Protection of Topographies for Semiconductor Products  

This is an unofficial translation of the law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products. Should there be any differences between this translation and the authentic Swedish text, the authentic Swedish text will prevail.

Law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products

Issued on the 17th of June 2020

Article 91 Anyone who intentionally or by gross negligence commits an act which infringes the right pursuant to Article 2, is punishable for topography violation with a fine or imprisonment for up to two years.

If the violation was committed intentionally and is considered serious, the person is punishable for serious topography violation with imprisonment for a minimum of six months up to a maximum of six years. When assessing whether the violation is serious, particular consideration has to be given to whether the act concerned

1. has been preceded by particular planning, 2. was part of criminal activities conducted in an organised form, 3. was conducted on a large scale, 4. was otherwise of a particularly dangerous nature. Anyone who has violated an injunction issued with a penalty of a fine

pursuant to Article 9 b, must not be held liable for infringements covered by the injunction.

Responsibility is assigned under Chapter 23 of the Criminal Code for attempting to commit or preparation of topography violation or serious topography violation.

The prosecutor may initiate a prosecution for violations only if the prosecution is motivated for being in the public interest. Act (2020:543).

This Act enters into force on the 1 September 2020.

1 Latest version 2005:304. 1

1

Svensk författningssamling

Lag om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter

Utfärdad den 17 juni 2020

Enligt riksdagens beslut1 föreskrivs att 9 § lagen (1992:1685) om skydd för

kretsmönster för halvledarprodukter ska ha följande lydelse.

9 §2 Den som uppsåtligen eller av grov oaktsamhet vidtar en åtgärd som

innebär intrång i rätten enligt 2 § döms för kretsmönsterbrott till böter eller

fängelse i högst två år.

Om brottet begåtts uppsåtligen och är att anse som grovt, döms för grovt

kretsmönsterbrott till fängelse i lägst sex månader och högst sex år. Vid

bedömningen av om brottet är grovt ska det särskilt beaktas om gärningen

1. har föregåtts av särskild planering,

2. har utgjort ett led i en brottslighet som utövats i organiserad form,

3. har varit av större omfattning, eller

4. annars har varit av särskilt farlig art.

Den som har överträtt ett vitesförbud enligt 9 b § får inte dömas till ansvar

för intrång som omfattas av förbudet.

För försök eller förberedelse till kretsmönsterbrott eller grovt kretsmönster-

brott döms det till ansvar enligt 23 kap. brottsbalken.

Åklagaren får väcka åtal för brott endast om åtal är motiverat från allmän

synpunkt.

Denna lag träder i kraft den 1 september 2020.

På regeringens vägnar

MORGAN JOHANSSON

Liv Bernitz

(Justitiedepartementet)

1 Prop. 2019/20:149, bet. 2019/20:NU18, rskr. 2019/20:312. 2 Senaste lydelse 2005:304.

SFS 2020:543 Publicerad

den 18 juni 2020


التشريعات يُعدّل (1 نصوص) يُعدّل (1 نصوص) مرجع وثيقة منظمة التجارة العالمية
IP/N/1/SWE/4
IP/N/1/SWE/L/3
لا توجد بيانات متاحة.

ويبو لِكس رقم SE219