Notions fondamentales de propriété intellectuelle : questions-réponses à l'usage des étudiants
Administration nationale chinoise de la propriété intellectuelle (CNIPA)
Année de publication: 2019
Le système de La Haye concernant l'enregistrement international des dessins et modèles industriels
Principales caractéristiques et avantages
Cette publication contient une présentation générale du système de La Haye et explique qui peut utiliser ce système, comment se déroule le processus d'enregistrement et quels sont les avantages pour les utilisateurs.
Année de publication: 2019
Propriété intellectuelle : Faits et chiffres de l'OMPI 2018
Une vue d'ensemble de l'activité dans le domaine de la propriété intellectuelle sur la base des données statistiques annuelles les plus récentes disponibles auprès des offices nationaux et régionaux de la propriété intellectuelle et à l'OMPI.
Année de publication: 2019
Revue annuelle du système de La Haye 2019 - Résumé
Enregistrements internationaux de dessins et modèles industriels
Ce résumé met en évidence les grandes tendances en ce qui concerne l'utilisation du système de La Haye pour l'enregistrement international des dessins et modèles industriels, administré par l'OMPI.
Année de publication: 2019
Arrangement de La Haye concernant l'enregistrement international des dessins et modèles industriels
Règlement d'exécution commun (texte en vigueur le 1er janvier 2019)
Le système d'enregistrement international des dessins et modèles industriels est régi par cet Arrangement. L'objectif du système est double. Tout d'abord, il permet d'obtenir la protection des dessins et modèles industriels dans plusieurs États moyennant un dépôt unique effectué auprès du Bureau international de l'OMPI. Ensuite, le fait qu'un dépôt unique produit des effets dans plusieurs pays facilite considérablement la gestion de la protection obtenue.
Année de publication: 2019