Séminaires sur la système de La Haye concernant l’enregistrement international des dessins et modèles industriels à Madrid, Alicante et Barcelone, le 7, 9 et 10 juin 2010
27 mai 2010
L’Organisation Mondiale de la Propriété Intellectuelle (OMPI) organise conjointement avec l’O
ffice Espagnol des Brevets et Marques (OEPM) et l’Office de l'harmonisation dans le marché
intérieur (marques, dessins et modèles) (OHMI) des séminairessur la protection des dessins et
modèles industriels “
Jornadas sobre Protección de los Diseños: Diseño Registrado”, le 7 juin 2010, à Madrid, le 9
juin 2010 à Alicante et le 10 juin 2010 à Barcelone. Ces séminaires se dérouleront en
espagnol.
L’objectif des séminaires est de présenter une vision globale sur les possibilités de protéger
les dessins et modèles industriels aux niveaux national, communautaire et international. Les
séminaires sont destinés et s’adresse aux dessinateurs, agents en propriété industrielle et
mandataires, PMES, associations de dessinateurs et étudiants.
Pour tout renseignement complémentaire sur le séminaire et pour s’inscrire en ligne,
veuillez contacter :
Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM)
Paseo de la Castellana 75
28071 Madrid
+3491 349 54 49 or +3491 349 84 45
Des questions ou des requêtes à formuler?
Système de la Haye de l'OMPI – Le système d'enregistrement international des dessins et modèles
Le système de La Haye offre un mécanisme international unique permettant d'obtenir et de gérer les droits attachés aux dessins et modèles simultanément dans plus de 90 pays au moyen d'une seule demande, dans une seule langue et en payant une seule série de taxes.