À propos de la propriété intellectuelle Formation en propriété intellectuelle Respect de la propriété intellectuelle Sensibilisation à la propriété intellectuelle La propriété intellectuelle pour… Propriété intellectuelle et… Propriété intellectuelle et… Information relative aux brevets et à la technologie Information en matière de marques Information en matière de dessins et modèles industriels Information en matière d’indications géographiques Information en matière de protection des obtentions végétales (UPOV) Lois, traités et jugements dans le domaine de la propriété intellectuelle Ressources relatives à la propriété intellectuelle Rapports sur la propriété intellectuelle Protection des brevets Protection des marques Protection des dessins et modèles industriels Protection des indications géographiques Protection des obtentions végétales (UPOV) Règlement extrajudiciaire des litiges Solutions opérationnelles à l’intention des offices de propriété intellectuelle Paiement de services de propriété intellectuelle Décisions et négociations Coopération en matière de développement Appui à l’innovation Partenariats public-privé Outils et services en matière d’intelligence artificielle L’Organisation Travailler avec nous Responsabilité Brevets Marques Dessins et modèles industriels Indications géographiques Droit d’auteur Secrets d’affaires Académie de l’OMPI Ateliers et séminaires Application des droits de propriété intellectuelle WIPO ALERT Sensibilisation Journée mondiale de la propriété intellectuelle Magazine de l’OMPI Études de cas et exemples de réussite Actualités dans le domaine de la propriété intellectuelle Prix de l’OMPI Entreprises Universités Peuples autochtones Instances judiciaires Ressources génétiques, savoirs traditionnels et expressions culturelles traditionnelles Économie Égalité des genres Santé mondiale Changement climatique Politique en matière de concurrence Objectifs de développement durable Technologies de pointe Applications mobiles Sport Tourisme PATENTSCOPE Analyse de brevets Classification internationale des brevets Programme ARDI – Recherche pour l’innovation Programme ASPI – Information spécialisée en matière de brevets Base de données mondiale sur les marques Madrid Monitor Base de données Article 6ter Express Classification de Nice Classification de Vienne Base de données mondiale sur les dessins et modèles Bulletin des dessins et modèles internationaux Base de données Hague Express Classification de Locarno Base de données Lisbon Express Base de données mondiale sur les marques relative aux indications géographiques Base de données PLUTO sur les variétés végétales Base de données GENIE Traités administrés par l’OMPI WIPO Lex – lois, traités et jugements en matière de propriété intellectuelle Normes de l’OMPI Statistiques de propriété intellectuelle WIPO Pearl (Terminologie) Publications de l’OMPI Profils nationaux Centre de connaissances de l’OMPI Série de rapports de l’OMPI consacrés aux tendances technologiques Indice mondial de l’innovation Rapport sur la propriété intellectuelle dans le monde PCT – Le système international des brevets ePCT Budapest – Le système international de dépôt des micro-organismes Madrid – Le système international des marques eMadrid Article 6ter (armoiries, drapeaux, emblèmes nationaux) La Haye – Le système international des dessins et modèles industriels eHague Lisbonne – Le système d’enregistrement international des indications géographiques eLisbon UPOV PRISMA UPOV e-PVP Administration UPOV e-PVP DUS Exchange Médiation Arbitrage Procédure d’expertise Litiges relatifs aux noms de domaine Accès centralisé aux résultats de la recherche et de l’examen (WIPO CASE) Service d’accès numérique aux documents de priorité (DAS) WIPO Pay Compte courant auprès de l’OMPI Assemblées de l’OMPI Comités permanents Calendrier des réunions WIPO Webcast Documents officiels de l’OMPI Plan d’action de l’OMPI pour le développement Assistance technique Institutions de formation en matière de propriété intellectuelle Mesures d’appui concernant la COVID-19 Stratégies nationales de propriété intellectuelle Assistance en matière d’élaboration des politiques et de formulation de la législation Pôle de coopération Centres d’appui à la technologie et à l’innovation (CATI) Transfert de technologie Programme d’aide aux inventeurs WIPO GREEN Initiative PAT-INFORMED de l’OMPI Consortium pour des livres accessibles L’OMPI pour les créateurs WIPO Translate Speech-to-Text Assistant de classification États membres Observateurs Directeur général Activités par unité administrative Bureaux extérieurs Avis de vacance d’emploi Achats Résultats et budget Rapports financiers Audit et supervision
Arabic English Spanish French Russian Chinese
Lois Traités Jugements Parcourir par ressort juridique

Suisse

CH359

Retour

Verordnung vom 26. April 1993 über den Schutz von Topographien von Halbleitererzeugnissen (stand am 1. Januar 2017)

 SR 231.21

1

Verordnung über den Schutz von Topographien von Halbleitererzeugnissen (Topographienverordnung, ToV)

vom 26. April 1993 (Stand am 1. Januar 2017)

Der Schweizerische Bundesrat, gestützt auf die Artikel 2 Absatz 2, 12 und 18 des Topographiengesetzes vom 9. Oktober 19921 (ToG) und auf Artikel 13 des Bundesgesetzes vom 24. März 19952 über Statut und Aufgaben des Eidgenössischen Instituts für Geistiges Eigentum (IGEG),3

verordnet:

1. Abschnitt: Allgemeine Bestimmungen

Art. 1 Zuständigkeit 1 Der Vollzug der Verwaltungsaufgaben, die sich aus dem ToG ergeben, und der Vollzug dieser Verordnung sind Sache des Instituts für Geistiges Eigentum (IGE)4.5 2 Ausgenommen sind der Artikel 12 ToG sowie die Artikel 16–19 dieser Verord- nung, deren Vollzug der Eidgenössischen Zollverwaltung obliegt.

Art. 2 Sprache 1 Eingaben an das IGE müssen in einer schweizerischen Amtssprache abgefasst sein. 2 Von Beweisurkunden, die nicht in einer Amtssprache abgefasst sind, kann das IGE unter Ansetzung einer Frist eine Übersetzung sowie eine Bescheinigung ihrer Rich- tigkeit verlangen; werden die verlangten Unterlagen nicht beigebracht, gelten die Beweisurkunden als nicht eingereicht.

AS 1993 1834 1 SR 231.2 2 SR 172.010.31 3 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 25. Okt. 1995, in Kraft seit 1. Jan. 1996

(AS 1995 5156). 4 Die Bezeichnung der Verwaltungseinheit wurde in Anwendung von Art. 16 Abs. 3 der

Publikationsverordnung vom 17. Nov. 2004 (AS 2004 4937) angepasst. Die Anpassung wurde im ganzen Text vorgenommen.

5 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 25. Okt. 1995, in Kraft seit 1. Jan. 1996 (AS 1995 5156).

231.21

Urheberrecht

2

231.21

Art. 2a6 Unterschrift 1 Eingaben müssen unterzeichnet sein. 2 Fehlt auf einer Eingabe die rechtsgültige Unterschrift, so wird das ursprüngliche Einreichungsdatum anerkannt, wenn eine inhaltlich identische und unterzeichnete Eingabe innerhalb eines Monats nach Aufforderung durch das IGE nachgereicht wird. 3 Die Anmeldung zum Registereintrag muss nicht unterzeichnet sein. Das IGE kann weitere Dokumente bestimmen, für welche die Unterschrift nicht nötig ist.

Art. 2b7 Elektronische Kommunikation 1 Das IGE kann die elektronische Kommunikation zulassen. 2 Es legt die technischen Einzelheiten fest und veröffentlicht sie in geeigneter Weise.

Art. 38 Gebühren Die Gebühren, die nach dem ToG oder nach dieser Verordnung erhoben werden, richten sich nach der Verordnung des IGE vom 14. Juni 20169 über Gebühren.

2. Abschnitt: Anmeldeverfahren

Art. 410 Mehrere Anmelder und Anmelderinnen 1 Melden mehrere Personen eine Topographie an, so haben sie entweder eine von ihnen zu bezeichnen, der das IGE alle Mitteilungen mit Wirkung für alle zustellen kann, oder eine gemeinsame Vertreterin zu bestellen. 2 Solange weder das eine noch das andere geschehen ist, wählt das IGE eine Person als Zustellungsempfänger im Sinne von Absatz 1. Widerspricht eine der anderen Personen, so fordert das IGE alle Beteiligen auf, nach Absatz 1 zu handeln.

Art. 5 Unterlagen zur Identifizierung 1 Folgende Unterlagen sind zur Identifizierung und Veranschaulichung der Topogra- phie zugelassen:

a. Zeichnungen oder Fotografien von Darstellungen (Layouts) zur Herstellung des Halbleitererzeugnisses;

b. Zeichnungen oder Fotografien von Masken oder Maskenteilen zur Herstel- lung des Halbleitererzeugnisses;

6 Eingefügt durch Ziff. I der V vom 3. Dez. 2004, in Kraft seit 1. Jan. 2005 (AS 2004 5037). 7 Eingefügt durch Ziff. I der V vom 3. Dez. 2004, in Kraft seit 1. Jan. 2005 (AS 2004 5037). 8 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827). 9 SR 232.148 10 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827).

Topographienverordnung

3

231.21

c. Zeichnungen oder Fotografien von einzelnen Schichten des Halbleitererzeug- nisses.

2 Zusätzlich können Datenträger, auf denen in digitalisierter Form Darstellungen ein- zelner Schichten von Topographien festgehalten sind, oder Computer-Ausdrucke davon sowie die Halbleitererzeugnisse selbst hinterlegt werden. 3 Die Unterlagen sind im Format DIN A4 (21×29,7 cm) oder auf dieses Format gefaltet einzureichen. Grossflächige Zeichnungen, Pläne oder Fotografien, die nicht gefaltet werden können, müssen in Zeichenrollen eingereicht werden, die höchstens 1,5 m lang und 15 cm dick sein dürfen. 4 Soweit das IGE die Unterlagen zur Identifizierung elektronisch entgegennimmt (Art. 2b), kann es von diesem Artikel abweichende Anforderungen festlegen; es veröffentlicht diese in geeigneter Weise.11

Art. 6 Unvollständige Anmeldung 1 Bei unvollständiger oder mangelhafter Anmeldung räumt das IGE dem Anmelder oder der Anmelderin eine Frist zur Vervollständigung der Anmeldung ein. 2 Ist der Mangel nach Ablauf der Frist nicht behoben, tritt es auf die Anmeldung nicht ein. Es kann ausnahmsweise weitere Fristen ansetzen.12

3. Abschnitt: Das Topographienregister

Art. 7 Registerinhalt Das IGE trägt die folgenden Angaben in das Register ein:

a. die Eintragungsnummer; b. das Anmeldedatum; c. der Name oder die Firma sowie die Adresse der anmeldenden Person oder

deren Rechtsnachfolgerin; d. der Name und die Adresse des Herstellers oder der Herstellerin; e. die Bezeichnung der Topographie; f. das Datum und der Ort einer allfälligen ersten geschäftlichen Verbreitung der

Topographie; g.13 das Datum der Veröffentlichung; h. Änderungen des gewöhnlichen Aufenthaltes oder der geschäftlichen Nieder-

lassung der an der Topographie Berechtigten;

11 Eingefügt durch Ziff. I der V vom 3. Dez. 2004, in Kraft seit 1. Jan. 2005 (AS 2004 5037). 12 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827). 13 Fassung gemäss Anhang Ziff. 1 der Designverordnung vom 8. März 2002, in Kraft seit

1. Juli 2002 (AS 2002 1122).

Urheberrecht

4

231.21

hbis.14 Änderungen im Recht an der Topographie; i.15 eingeräumte Rechte sowie Verfügungsbeschränkungen von Gerichten und

Zwangsvollstreckungsbehörden; k. das Datum der Löschung.

Art. 8 Aktenheft Das IGE führt für jede Topographie ein Aktenheft.

Art. 9 Fabrikations- oder Geschäftsgeheimnis 1 Zu den Akten gegebene Beweisurkunden, die ein Fabrikations- oder Geschäfts- geheimnis offenbaren, werden auf Antrag ausgesondert. 2 Unterlagen, die nach Artikel 5 zur Identifizierung dienen, dürfen nicht in ihrer Gesamtheit ausgesondert werden. 3 Auf ausgesonderte Urkunden wird im Aktenheft hingewiesen. 4 Über die Einsicht in ausgesonderte Urkunden entscheidet das IGE nach Anhörung der an der Topographie Berechtigten, die im Register eingetragen sind.

Art. 1016 Bestätigung Das IGE bestätigt dem Anmelder oder der Anmelderin die Eintragung.

Art. 1117 Veröffentlichung 1 Das IGE veröffentlicht die im Register eingetragenen Angaben. 2 Es bestimmt das Publikationsorgan. 3 Auf Antrag und gegen Kostenersatz erstellt es Papierkopien von ausschliesslich elektronisch veröffentlichten Daten.18 4 …19

Art. 1220 Änderung und Löschung von Einträgen 1 Das IGE trägt aufgrund einer entsprechenden Erklärung der an der Topographie Berechtigten oder einer anderen genügenden Urkunde ein:

a. die Einräumung von Rechten an der Topographie;

14 Eingefügt durch Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827). 15 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827). 16 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827). 17 Fassung gemäss Anhang Ziff. 1 der Designverordnung vom 8. März 2002, in Kraft seit

1. Juli 2002 (AS 2002 1122). 18 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 3. Dez. 2004, in Kraft seit 1. Jan. 2005 (AS 2004 5037). 19 Aufgehoben durch Ziff. I der V vom 3. Dez. 2004, mit Wirkung seit 1. Jan. 2005

(AS 2004 5037). 20 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827).

Topographienverordnung

5

231.21

b. Verfügungsbeschränkungen von Gerichten und Zwangsvollstreckungsbehör- den;

c. Änderungen, die eingetragene Angaben betreffen. 2 Die Löschung der Eintragung einer Topographie ist gebührenfrei.

Art. 13 Berichtigung 1 Fehlerhafte Eintragungen werden auf Antrag der an der Topographie Berechtigten unverzüglich berichtigt. 2 Beruht der Fehler auf einem Versehen des IGE, so erfolgt die Berichtigung von Amtes wegen.

Art. 1421 Registerauszüge Das IGE erstellt Auszüge aus dem Register.

Art. 15 Aufbewahrung und Rückgabe 1 Das IGE bewahrt die Akten sowie die hinterlegten Datenträger und Halbleiter- erzeugnisse nach der gültigen Anmeldung während 20 Jahren auf. 2 Werden die Datenträger und Halbleitererzeugnisse nach Ablauf der Aufbewah- rungsfrist nicht zurückverlangt, kann sie das IGE auch ohne Antrag zurückschicken. Kann die Adresse der Berechtigten nicht ausfindig gemacht werden, so werden die hinterlegten Gegenstände zusammen mit den Akten vernichtet.

4. Abschnitt: Hilfeleistung der Zollverwaltung

Art. 1622 Bereich Die Hilfeleistung der Zollverwaltung erstreckt sich auf das Verbringen von Halb- leitererzeugnissen, bei denen der Verdacht besteht, dass ihre Verbreitung gegen die in der Schweiz geltende Gesetzgebung über den Schutz von Topographien von Halbleitererzeugnissen verstösst, ins oder aus dem Zollgebiet.

Art. 17 Antrag auf Hilfeleistung 1 Die Hersteller und Herstellerinnen oder die klageberechtigten Lizenznehmer und Lizenznehmerinnen (Antragsteller und Antragstellerinnen) müssen den Antrag auf Hilfeleistung bei der Oberzolldirektion stellen.23

21 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 2. Dez. 2016, in Kraft seit 1. Jan. 2017 (AS 2016 4827). 22 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 21. Mai 2008, in Kraft seit 1. Juli 2008

(AS 2008 2543). 23 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 21. Mai 2008, in Kraft seit 1. Juli 2008

(AS 2008 2543).

Urheberrecht

6

231.21

1bis Die Oberzolldirektion entscheidet spätestens 40 Tage nach Erhalt der vollständi- gen Unterlagen über den Antrag.24 2 Der Antrag gilt während zwei Jahren, wenn er nicht für eine kürzere Geltungsdauer gestellt wird. Er kann erneuert werden.

Art. 1825 Zurückbehalten von Halbleitererzeugnissen 1 Behält die Zollstelle Halbleitererzeugnisse zurück, so verwahrt sie sie gegen Ge- bühr selbst oder gibt sie auf Kosten des Antragstellers oder der Antragstellerin einer Drittperson in Verwahrung. 2 Sie teilt dem Antragsteller oder der Antragstellerin Name und Adresse der Anmel- derin, Besitzerin oder Eigentümerin beziehungsweise des Anmelders, Besitzers oder Eigentümers, eine genaue Beschreibung, die Menge sowie den Absender im In- oder Ausland der zurückbehaltenen Halbleitererzeugnisse mit. 3 Steht schon vor Ablauf der Frist nach Artikel 77 Absatz 2 beziehungsweise 2bis des Urheberrechtsgesetzes vom 9. Oktober 199226 fest, dass der Antragsteller oder die Antragstellerin keine vorsorgliche Massnahme erwirken kann, so gibt die Zollstelle die Halbleitererzeugnisse unverzüglich frei.

Art. 18a27 Proben oder Muster 1 Der Antragsteller oder die Antragstellerin kann die Übergabe oder Zusendung von Proben oder Mustern zur Prüfung oder die Besichtigung der Halbleitererzeugnisse beantragen. Anstelle von Proben oder Mustern kann die Zollverwaltung dem Antrag- steller oder der Antragstellerin auch Fotografien der zurückbehaltenen Halbleiterer- zeugnisse übergeben, wenn diese eine Prüfung durch den Antragsteller oder die Antragstellerin ermöglichen. 2 Der Antrag kann zusammen mit dem Antrag auf Hilfeleistung bei der Oberzoll- direktion oder während des Zurückbehaltens der Halbleitererzeugnisse direkt bei der Zollstelle gestellt werden, welche die Halbleitererzeugnisse zurückbehält.

Art. 18b28 Wahrung von Fabrikations- und Geschäftsgeheimnissen 1 Die Zollverwaltung weist die Anmelderin, Besitzerin oder Eigentümerin bezie- hungsweise den Anmelder, Besitzer oder Eigentümer der Halbleitererzeugnisse auf die Möglichkeit hin, einen begründeten Antrag auf Verweigerung der Entnahme von

24 Eingefügt durch Ziff. I 2 der V vom 6. Juni 2014 über die Ordnungsfristen im Zuständigkeitsbereich der Eidgenössischen Zollverwaltung, in Kraft seit 1. Sept. 2014 (AS 2014 2051).

25 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 21. Mai 2008, in Kraft seit 1. Juli 2008 (AS 2008 2543).

26 SR 231.1 27 Eingefügt durch Ziff. I der V vom 21. Mai 2008, in Kraft seit 1. Juli 2008

(AS 2008 2543). 28 Eingefügt durch Ziff. I der V vom 21. Mai 2008, in Kraft seit 1. Juli 2008

(AS 2008 2543).

Topographienverordnung

7

231.21

Proben oder Mustern zu stellen. Sie setzt ihr oder ihm für die Stellung des Antrags eine angemessene Frist. 2 Gestattet die Zollverwaltung dem Antragsteller oder der Antragstellerin die Besich- tigung der zurückbehaltenen Halbleitererzeugnisse, so nimmt sie bei der Festlegung des Zeitpunkts auf die Interessen des Antragstellers oder der Antragstellerin und der Anmelderin, Besitzerin oder Eigentümerin beziehungsweise des Anmelders, Besit- zers oder Eigentümers angemessen Rücksicht.

Art. 18c29 Aufbewahrung von Beweismitteln bei Vernichtung der Halbleitererzeugnisse

1 Die Zollverwaltung bewahrt die entnommenen Proben oder Muster während eines Jahres ab der Benachrichtigung der Anmelderin, Besitzerin oder Eigentümerin beziehungsweise des Anmelders, Besitzers oder Eigentümers nach Artikel 77 Ab- satz 1 des Urheberrechtsgesetzes vom 9. Oktober 199230 auf. Nach Ablauf dieser Frist fordert sie die Anmelderin, Besitzerin oder Eigentümerin beziehungsweise den Anmelder, Besitzer oder Eigentümer auf, die Proben oder Muster in ihren bezie- hungsweise seinen Besitz zu nehmen oder die Kosten der weiteren Aufbewahrung zu tragen. Ist die Anmelderin, Besitzerin oder Eigentümerin beziehungsweise der An- melder, Besitzer oder Eigentümer dazu nicht bereit oder lässt sie beziehungsweise er sich innerhalb von 30 Tagen nicht vernehmen, so vernichtet die Zollverwaltung die Proben oder Muster. 2 Die Zollverwaltung kann anstelle der Entnahme von Proben oder Mustern Fotogra- fien der vernichteten Halbleitererzeugnisse erstellen, soweit damit der Zweck der Sicherung von Beweismitteln gewährleistet ist.

Art. 1931 Gebühren Die Gebühren für die Hilfeleistung der Zollverwaltung richten sich nach der Verord- nung vom 4. April 200732 über die Gebühren der Zollverwaltung.

5. Abschnitt: Inkrafttreten

Art. 20 Diese Verordnung tritt am 1. Juli 1993 in Kraft.

29 Eingefügt durch Ziff. I der V vom 21. Mai 2008, in Kraft seit 1. Juli 2008 (AS 2008 2543).

30 SR 231.1 31 Fassung gemäss Ziff. I der V vom 21. Mai 2008, in Kraft seit 1. Juli 2008

(AS 2008 2543). 32 SR 631.035

Urheberrecht

8

231.21