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231.21
TABLE DES MATIèRES
Article
Section 1 : Dispositions générales
Compétence 1er
Langue 2
Taxes 3
Section 2 : Procédure de dépôt de la demande d’inscription
Section 3 : Registre des topographies
Section 4 : Intervention de l’Administration des douanes
Le Conseil fédéral suisse,
vu les articles 2, 2e alinéa, 12 et 18 de la loi du 9 octobre 19921 sur les topographies, LTo);
vu l’article 13 de la loi fédérale du 24 mars 19952 sur le statut et les tâches de l’Institut fédéral de la Propriété intellectuelle (LIPI),3
arrête :
Section 1
Dispositions générales
1er.— L’exécution des tâches administratives découlant de la LTo et l’application de la présente ordonnance incombent à l’Institut fédéral de la Propriété intellectuelle (Institut).4
2 Toutefois, l’article 12 LTo et les articles 16 à 19 de la présente ordonnance sont du ressort de l’Administration fédérale des douanes.
2. — 1 Les écrits adressés à l’Institut5 doivent être rédigés dans une langue officielle suisse.
2 Lorsque les documents remis à titre de preuve ne sont pas rédigés dans une langue officielle, l’Institut peut exiger, en impartissant un délai pour les produire, une traduction et une certification de conformité; en l’absence des pièces exigées, les documents remis à titre de preuve sont réputés ne pas avoir été produits.
3.6 L’ordonnance du 25 octobre 19957 sur les taxes de l’Institut fédéral de la Propriété intellectuelle s’applique aux taxes prévues par la LTo et par la présente ordonnance.
Section 2
Procédure de dépôt de la demande d’inscription
4. — 1 Lorsque plusieurs personnes demandent l’inscription d’une topographie, l’Institut peut exiger qu’elles désignent l’une d’elles ou une tierce personne pour assurer la représentation commune auprès de l’Institut.
2 Si, après injonction de l’Institut, aucun représentant n’a été désigné, la personne nommée la première dans la demande d’inscription assure la représentation commune.
5. — 1 Les pièces nécessaires à l’identification et à la représentation concrète de la topographie sont les suivantes :
a. dessins ou photographies de représentations (layouts) servant à fabriquer le produit semi-conducteur;
b. dessins ou photographies de masques ou de parties de masques servant à fabriquer le produit semi-conducteur;
c. dessins ou photographies de différentes couches du produit semi-conducteur.
2 En outre, des supports de données sur lesquels sont enregistrés des couches de la topographie sous une forme digitale ou leur tirage sur papier ainsi que le produit semi-conducteur lui-même peuvent également être déposés.
3 Les pièces doivent être produites en format A4 (21 × 29,7 cm) ou pliées à ce format. Les dessins, les plans ou les photographies de grande surface qui ne peuvent pas être pliées, doivent être déposés sous forme de rouleaux dont la longueur et le diamètre n’excèdent pas 1,5 m et 15 cm respectivement.
Demande d’inscription incomplète
6. — 1 L’Institut impartit un délai au déposant pour compléter sa demande d’inscription, lorsqu’elle est incomplète ou lacunaire.
2 L’Institut n’entre pas en matière lorsque la demande d’inscription n’a pas été rectifiée à l’expiration du délai.
Section 3
Registre des topographies
7. L’Institut inscrit au registre les indications suivantes :
a. le numéro d’enregistrement;
b. la date de dépôt de la demande d’inscription;
c. le nom ou la raison sociale ainsi que l’adresse du déposant ou de son successeur légal;
d. le nom et l’adresse du producteur;
e. la désignation de la topographie;
f. la date et le lieu de l’éventuelle première mise en circulation commerciale de la topographie;
g.8 la date de la publication;
h. le changement du domicile habituel ou de l’établissement commercial de l’ayant droit;
i. les restrictions au pouvoir de disposition ordonnées par des tribunaux et des autorités chargées de l’exécution forcée;
k. la date de la radiation.
8. L’Institut tient un dossier pour chaque topographie.
Secret de fabrication et d’affaires
9. — 1 Les documents remis à titre de preuve qui divulguent des secrets de fabrication ou d’affaires sont, sur demande, classés séparément lorsqu’ils sont versés au dossier.
2 Les pièces servant à l’identification de la topographie, mentionnées à l’article 5, ne peuvent pas être dans leur totalité classées séparément.
3 Le dossier fait état de l’existence des documents classés séparément.
4 Après avoir entendu les ayants droit inscrits au registre, l’Institut décide d’autoriser ou non la consultation des documents classés séparément.
10. Une fois l’enregistrement effectué, l’Institut délivre une attestation correspondante.
11.9 —1 L’Institut publie les indications inscrites au registre.
2 Il détermine l’organe de publication.
3 La publication peut se faire sous forme électronique.
4 La version électronique ne fait foi que si les données sont publiées exclusivement sous forme électronique.
Modification et radiation d’inscriptions enregistrées
12. — 1 La modification d’inscriptions enregistrées (art. 7, let. c, h ou i), de même que la radiation totale ou partielle de l’enregistrement d’une topographie doivent être demandées par écrit.
2 Toute demande de modification donne lieu au paiement de la taxe facturée par l’Institut.10
3 Ne donne pas lieu au paiement d’une taxe l’enregistrement de modifications découlant d’un jugement entré en force ou de restrictions au pouvoir de disposition ordonnées par des tribunaux et des autorités chargées de l’exécution forcée. Une copie du jugement et une attestation d’entrée en force doivent être jointes à la demande de modification.
4 Les modifications sont versées au dossier, inscrites au registre et attestées par l’Institut.
13. — 1 A la demande des ayants droit, les erreurs affectant l’enregistrement sont rectifiées sans retard.
2 Lorsque l’erreur est imputable à l’Institut, elle est rectifiée d’office.
14. Sur demande et moyennant le paiement d’une taxe, l’Institut établit des extraits du registre.
15. — 1 L’Institut conserve les documents ainsi que les supports de données et les produits semi-conducteurs déposés pendant vingt ans à compter du dépôt de la demande d’inscription valable.
2 Les supports de données et les produits semi-conducteurs non réclamés à l’expiration du délai de conservation peuvent être restitués d’office. Lorsqu’il est impossible de trouver l’adresse des ayants droit, ils sont détruits en même temps que les documents.
Section 4
Intervention de l’Administration des douanes
16.11 L’intervention de l’Administration des douanes s’étend à l’importation et à l’exportation de produits semi-conducteurs lorsqu’il y a lieu de soupçonner que la mise en circulation de ces produits contrevient à la législation en vigueur en Suisse concernant la protection des topographies de produits semi-conducteurs. Elle s’étend également à l’entreposage de tels produits dans un entrepôt douanier.
17. — 1 Les ayants droit doivent déposer leur demande d’intervention auprès de la Direction générale des douanes. Dans les cas urgents, la demande peut être déposée directement auprès du bureau de douane par lequel les produits semi-conducteurs suspects doivent être importés ou exportés.12
2 La demande est valable deux ans à moins qu’elle ait été déposée pour une période plus courte. Elle peut être renouvelée.
18. — 1 Lorsque le bureau de douane retient des produits semi-conducteurs, il en assume la garde moyennant le paiement d’une taxe ou confie cette tâche à un tiers au frais du requérant.
2 Le requérant est autorisé à examiner les produits semi-conducteurs retenus. La personne en droit de disposer des produits semi-conducteurs peut assister à l’examen.
3 Lorsqu’il est établi, avant l’échéance des délais prévus à l’article 77, alinéas 2 et 2bis, LDA, que le requérant n’est pas à même d’obtenir des mesures provisionnelles, les produits semi-conducteurs sont immédiatement libérés.13
19. Les taxes perçues pour une demande d’intervention ainsi que pour l’entreposage des produits semi-conducteurs sont fixées dans l’ordonnance du 22 août 198414 sur les taxes de l’Administration des douanes.
20. La présente ordonnance entre en vigueur le 1er juillet 1993.
1 RO 1993 1834
RS 231.2
2 RS 172.010.31
3 Nouvelle teneur selon le ch. I de l’O du 25 oct. 1995, en vigueur depuis le 1er janv. 1996 (RO 1995 5156).
4 Nouvelle teneur selon le ch. I de l’O du 25 oct. 1995, en vigueur depuis le 1er janv. 1996 (RO 1995 5156).
5 Nouvelle expression selon le ch. I de l’O du 25 oct. 1995, en vigueur depuis le 1er janv. 1996 (RO 1995 5156). Il a été tenu compte de cette modification dans tout le présent texte.
6 Nouvelle teneur selon le ch. I de l’O du 25 oct. 1995, en vigueur depuis le 1er janv. 1996 (RO 1995 5156).
7 RS 232.148
8 Nouvelle teneur selon le ch. 1 de l’annexe à l’O du 8 mars 2002 sur les designs, en vigueur depuis le 1er juillet 2002 (RS 232.121).
9 Nouvelle teneur selon le ch. 1 de l’annexe à l’O du 8 mars 2002 sur les designs, en vigueur depuis le 1er juillet 2002 (RS 232.121).
10 Nouvelle teneur selon le ch. I de l’O du 25 oct. 1995, en vigueur depuis le 1er janv. 1996 (RO 1995 5156).
11 Nouvelle teneur selon le ch. I de l’O du 17 mai 1995, en vigueur depuis le 1er juillet 1995 (RO 1995 1779).
12 Nouvelle teneur selon le ch. I de l’O du 17 mai 1995, en vigueur depuis le 1er juillet 1995 (RO 1995 1779).
13 Nouvelle teneur selon le ch. I de l’O du 17 mai 1995, en vigueur depuis le 1er juillet 1995 (RO 1995 1779).
14 RS 631.152.1