World Intellectual Property Organization

Seminario sobre el Sistema de Registro Internacional de Marcas y el Sistema de Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

CódigoOMPI/MM&H/HAV/99
Fecha y lugar21 de octubre de 1999 (La Habana, Cuba)

Documentos de reunión

CódigoTítulo(s)Fichero(s)
OMPI/MM&H/HAV/99/INF/1SpanishPrograma
OMPI/MM&H/HAV/99/1SpanishEl Sistema de Madrid para el Registo Internacional de Marcas: Procedimientos ante la Oficina Internacional de la OMPI
OMPI/MM&H/HAV/99/2SpanishExperiencia de la República de Cuba en la Aplicación del Arreglo de Madrid y su Protocolo Relativo al Registro Internacional de Marcas
OMPI/MM&H/HAV/99/3SpanishActa de Ginebra (1999) del Arreglo de la Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales: Principales Innovaciones Aportadas al Sistema Actual, Derivado del Acta de 1934 y del Acta del Arreglo

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