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				<titlePart><text>SECTION H <emdash></emdash> ELECTRICITE</text>
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					<titlePart><text>TECHNIQUES ELECTRIQUES NON PREVUES AILLEURS</text>
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						<titlePart><text>TECHNIQUE DU PLASMA</text>
							<entryReference>réacteurs thermonucléaires <sref ref="G21B" refType="/" refLevel="c"></sref>
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							<entryReference>générateurs magnétohydrodynamiques <sref ref="H02N0004020000" refType="/" refLevel="c"></sref>
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						<titlePart><text>PRODUCTION DE PARTICULES ELECTRIQUEMENT CHARGEES ACCELEREES OU DE NEUTRONS</text>
							<entryReference>obtention de neutrons à partir de sources radioactives, p.ex. dans des réacteurs nucléaires <sref ref="G21" refType="/" refLevel="c"></sref>
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							<entryReference>détails non spécialement adaptés aux accélérateurs de particules <sref ref="H01J" refType="/" refLevel="c"></sref>
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						<note type="none">
							<noteParagraph><text>Cette sous-classe traite seulement de</text>
								<subnote type="alpha">
									<noteParagraph><text>dispositifs non couverts par <sref ref="H01J" refType="/" refLevel="c"/> et dans lesquels les électrons ou ions en faisceaux sont accélérés les énergies élevées par des champs électriques ou magnétiques; et</text>
									</noteParagraph>
									<noteParagraph><text>dispositifs dans lesquels les faisceaux d'électrons ou d'ions sont accélérés vers les hautes énergies par application répétée ou continue de tensions relativement petites.</text>
									</noteParagraph>
								</subnote>
							</noteParagraph>
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							<titlePart><text>Production du plasma</text>
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							<titlePart><text>Mise en oeuvre du plasma</text>
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								<titlePart><text>Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiques</text>
								</titlePart>
								<titlePart><text>Dispositions pour chauffer le plasma</text>
									<entryReference>optique électronique <sref ref="H01J" refType="/" refLevel="c"></sref>
									</entryReference>
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									<titlePart><text>utilisant des champs magnétiques essentiellement engendrés par la décharge dans le plasma</text>
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										<titlePart><text>Dispositifs de pinçage longitudinal</text>
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										<titlePart><text>Dispositifs de pinçage thêta</text>
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									<titlePart><text>utilisant seulement des champs magnétiques appliqués</text>
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										<titlePart><text>dans lesquels l'enceinte forme une boucle fermée</text>
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										<titlePart><text>dans lesquels l'enceinte est droite et comporte un miroir magnétique</text>
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									<titlePart><text>utilisant des champs électriques ou magnétiques appliqué extérieurement</text>
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										<titlePart><text>dans lesquels les champs oscillent à très haute fréquence, p.ex. dans la bande des micro-ondes</text>
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									<titlePart><text>Chauffage ohmique</text>
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									<titlePart><text>pour chauffage par injection</text>
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								<titlePart><text>Production du plasma</text>
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									<titlePart><text>Torches à plasma</text>
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							<titlePart><text>Accélérateurs à tension continue</text>
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							<titlePart><text>Accélérateurs monopulsés</text>
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								<titlePart><text>Détails</text>
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									<titlePart><text>alimenté par des générateurs électrostatiques, p.ex. générateur de Van de Graaff</text>
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								<titlePart><text>Accélérateurs en série</text>
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								<titlePart><text>Accélérateurs à étages multiples</text>
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							<titlePart><text>Détails des dispositifs des types couverts par les groupes <sref ref="H05H0009000000" refType="/" refLevel="c"></sref>, <sref ref="H05H0011000000" refType="/" refLevel="c"></sref>, <sref ref="H05H0013000000" refType="/" refLevel="c"></sref>
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								<titlePart><text>Circuits ou systèmes d'alimentation en énergie haute fréquence</text>
									<entryReference>générateurs haute fréquence <sref ref="H03B" refType="/" refLevel="c"></sref>
									</entryReference>
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								<titlePart><text>Systèmes à aimants</text>
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								<titlePart><text>Leur excitation</text>
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								<titlePart><text>Dispositions à deux faisceaux</text>
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								<titlePart><text>Dispositions multifaisceaux</text>
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								<titlePart><text>Dispositions pour placer des particules sur leurs orbites</text>
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								<titlePart><text>Dispositions pour extraire des particules de leurs orbites</text>
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								<titlePart><text>Dispositions pour faire varier l'énergie finale d'un faisceau</text>
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							<titlePart><text>Accélérateurs linéaires</text>
								<entryReference><sref ref="H05H0011000000" refType="/" refLevel="c"></sref> a priorité</entryReference>
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								<titlePart><text>Accélérateurs linéaires à ondes progressives</text>
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								<titlePart><text>Accélérateurs linéaires à ondes stationnaires</text>
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							<titlePart><text>Accélérateurs à induction magnétique, p.ex. Bêtatrons</text>
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								<titlePart><text>Bêtatrons à noyau à air</text>
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								<titlePart><text>Bêtatrons avec champ magnétique continu superposé</text>
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							<titlePart><text>Accélérateurs à résonance magnétique</text>
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							<titlePart><text>Cyclotrons</text>
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								<titlePart><text>Synchrocyclotrons, c.à<nbsp></nbsp>d. cyclotrons modulés en fréquence</text>
								</titlePart>
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								<titlePart><text>Synchrotrons</text>
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								<titlePart><text>Accélérateurs à résonance magnétique à noyau à l'air</text>
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								<titlePart><text>Accélérateurs à résonance magnétique à gradient alternatif</text>
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