H
SECTION H — ELECTRICITE
 H05
TECHNIQUES ELECTRIQUES NON PREVUES AILLEURS
 H05H
TECHNIQUE DU PLASMA (réacteurs thermonucléaires G21B; générateurs magnétohydrodynamiques H02N 4/02); PRODUCTION DE PARTICULES ELECTRIQUEMENT CHARGEES ACCELEREES OU DE NEUTRONS (détails non spécialement adaptés aux accélérateurs de particules H01J; obtention de neutrons à partir de sources radioactives, p.ex. dans des p.ex. dans des réacteurs nucléaires G21)
 H05H

Note(s)

Cette sous-classe traite seulement de (a) dispositifs non couverts par H01J et dans lesquels les électrons et/ou ions en faisceaux sont accélérés les énergies élevées par des champs électriques et/ou magnétiques; et (b) dispositifs dans lesquels les faisceaux d'électrons ou d'ions sont accélérés vers les hautes énergies par application répétée ou continue de tensions relativement petites.

 H05H 1/00
Production du plasma; Mise en OEuvre du plasma
 H05H 1/02
·  Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiques; Dispositions pour chauffer le plasma (optique électronique H01J)
 H05H 1/04
·  ·  utilisant des champs magnétiques essentiellement engendrés par la décharge dans le plasma
 H05H 1/06
·  ·  ·  Dispositifs de pinçage longitudinal
 H05H 1/08
·  ·  ·  Dispositifs de pinçage thêta
 H05H 1/10
·  ·  utilisant seulement des champs magnétiques appliqués
 H05H 1/12
·  ·  ·  dans lesquels l'enceinte forme une boucle fermée
 H05H 1/14
·  ·  ·  dans lesquels l'enceinte est droite et comporte un miroir magnétique
 H05H 1/16
·  ·  utilisant des champs électriques ou magnétiques
 H05H 1/18
·  ·  ·  dans lesquels les champs oscillent à très haute fréquence, p.ex. dans la bande des micro-ondes
 H05H 1/20
·  ·  Chauffage ohmique
 H05H 1/22
·  ·  pour chauffage par injection
 H05H 5/00
Accélérateurs à tension continue; Accélérateurs monopulsés
 H05H 5/02
·  Détails
 H05H 5/04
·  ·  alimenté par des générateurs électrostatiques, p.ex. générateur de Van de Graaf
 H05H 5/06
·  Accélérateurs en série; Accélérateurs a étages multiples
 H05H 7/00
Détails des dispositifs des types couverts par les groupes H05H 9/00, H05H 11/00, H05H 13/00
 H05H 7/02
·  Circuits ou systèmes d'alimentation en énergie haute fréquence (générateurs haute fréquence H03B)
 H05H 7/04
·  Systèmes à aimants; Leur excitation
 H05H 7/06
·  Dispositions à deux faisceaux; Dispositions multifaisceaux
 H05H 7/08
·  Dispositions pour placer des particules sur leurs orbites
 H05H 7/10
·  Dispositions pour extraire des particules de leurs orbites
 H05H 7/12
·  Dispositions pour faire varier l'énergie finale d'un faisceau
 H05H 9/00
Accélérateurs linéaires (H05H 11/00 a priorité)
 H05H 9/02
·  Accélérateurs linéaires à ondes progressives
 H05H 9/04
·  Accélérateurs linéaires à ondes stationnaires
 H05H 11/00
Accélérateurs à induction magnétique, p.ex. Bêtatrons
 H05H 11/02
·  Bêtatrons à noyau à air
 H05H 11/04
·  Bêtatrons avec champ magnétique continu superposé
 H05H 13/00
Accélérateurs à résonance magnétique; Cyclotrons
 H05H 13/02
·  Synchrocyclotrons, c.à d. cyclotrons modulés en fréquence
 H05H 13/04
·  Synchrotrons
 H05H 13/06
·  Accélérateurs à résonance magnétique à noyau à l'air
 H05H 13/08
·  Accélérateurs à résonance magnétique à gradient alternatif