Définitions de la CIB - 01 janvier 2012
G03F 1/70 - Définition
Le présent groupe couvre:
La matière du sous-groupe G03F 1/68 dans lequel les procédés de confection sont destinés à l’adaptation, aux exigences du procédé lithographique, de la topologie de base des produits à motifs dessinés modifiant le rayonnement, lesquels procédés comportent des méthodes pour adapter, modifier ou corriger les dessins de base d’un masque exposé au rayonnement utilisé pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées ou à motifs dessinés (p.ex. correction par deuxième itération d’un dessin de masque permettant la reproduction de son image).
Il est important de tenir compte des endroits suivants, qui peuvent présenter un intérêt pour la recherche:
Procédés de topologie ou de conception à correction d’effets de proximité pour la confection de masques à caractéristiques de correction d’effets de proximité, p.ex. à caractéristiques de correction d’effets de proximité optique | G03F 1/36 |
Conception assistée par ordinateur en général | G06F 17/50 |