Définitions de la CIB - 01 janvier 2012

G03F 1/70 - Définition en

Énoncé de la définition

Le présent groupe couvre:

La matière du sous-groupe G03F 1/68 dans lequel les procédés de confection sont destinés à l’adaptation, aux exigences du procédé lithographique, de la topologie de base des produits à motifs dessinés modifiant le rayonnement, lesquels procédés comportent des méthodes pour adapter, modifier ou corriger les dessins de base d’un masque exposé au rayonnement utilisé pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées ou à motifs dessinés (p.ex. correction par deuxième itération d’un dessin de masque permettant la reproduction de son image).

Renvois indicatifs

Il est important de tenir compte des endroits suivants, qui peuvent présenter un intérêt pour la recherche:

Procédés de topologie ou de conception à correction d’effets de proximité pour la confection de masques à caractéristiques de correction d’effets de proximité, p.ex. à caractéristiques de correction d’effets de proximité optique

G03F 1/36

Conception assistée par ordinateur en général

G06F 17/50