Définitions de la CIB - 01 janvier 2012
G03F 1/00 - Définition
Le présent groupe principal couvre:
Les produits à motifs dessinés modifiant le rayonnement, qui sont de constitution chimique définie et présentent des motifs dessinés pour modifier le rayonnement pendant la reproduction de leur image (p.ex. masques, photomasques, réticules), la confection de tels produits à motifs dessinés modifiant le rayonnement, de produits similaires ou analogues qui font office de plaques pour masques ou de substrats spécialisés, en soi, pour confectionner de tels produits à motifs dessinés modifiant le rayonnement, les procédés de confection de telles plaques pour masques ou de substrats spécialisés, en soi (si non prévus ailleurs), les pellicules, en soi ou les pellicules en association avec les produits à motifs dessinés modifiant le rayonnement, les procédés de confection de telles pellicules (si non prévus ailleurs), les contenants qui sont spécialement adaptés à cet effet, ou leurs procédés de confection (si non prévus ailleurs).
Il est important de tenir compte des endroits suivants, qui peuvent présenter un intérêt pour la recherche:
Électrographie; électrophotographie | G03G |
Procédé par voie photomécanique; appareillage; matériau photosensible, p.ex. résine photosensible, en général | G03F 7/00 |
Utilisation de structures en résine photosensible pour des procédés de production particuliers, p.ex.: | |
Réalisation d’effets décoratifs | B44C |
Fabrication ou traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs transistorisés, ou bien de leurs parties constitutives | H01L 21/00 |
Circuits imprimés; détails d’appareils électriques; fabrication de composants électriques, en général | H05K |
Procédés ou appareils holographiques | G03H |
Règles particulières de classement dans la présente sous-classe
Dans le présent groupe principal, à chaque niveau hiérarchique, sauf indication contraire, le classement s’effectue à la première entrée appropriée.