Définitions de la CIB - 01 janvier 2012
G03F 1/34 - Définition
Le présent groupe couvre:
La matière du sous-groupe G03F 1/26 dans lequel le masque à décalage de phase possède au moins deux régions claires directement adjacentes l’une à l’autre qui produisent des phases différentes (généralement distantes de 180°) pour créer un saut de phase entre ces régions claires différentes dans les portions correspondantes de l’éclairement sortant, ce saut de phase représentant un dessin à reproduire (p.ex. masque à décalage de phase sans chrome, etc.); et dans lequel le procédé de confection a pour objet la confection d’un tel masque à décalage de phase à contour de phase.
Note. Dans le présent sous-groupe, un tel masque à décalage de phase à saut de phase peut ne pas comporter de région opaque (comme un masque à décalage de phase sans chrome). En revanche, le masque à décalage de phase à saut de phase peut tout à fait comprendre une région opaque ou une région d’absorbeurs, notamment à sa bordure périphérique afin d’éviter les artéfacts indésirables susceptibles de se produire par ailleurs dans une couche de résine photosensible ordinaire par suite de photorépétitions sur ce masque à décalage de phase à contour de phase. Néanmoins, ledit masque doit toujours posséder au moins un saut de phase libre entre deux régions claires directement adjacentes qui produisent un éclairement sortant présentant des phases différentes (p.ex. à 0° et 180°, etc.), ce saut de phase représentant un dessin à reproduire, comme décrit précédemment.