| CIB 7 Version française |
| H05H-H05H01500 |
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| SECTION H – ÉLECTRICITÉ |
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| H 05 | TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS |
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| H 05 H | TECHNIQUE DU PLASMA (réacteurs de fusion G21B; tubes à faisceau ionique H01J 27/00; générateurs magnétohydrodynamiques H02K 44/08; production de rayons X utilisant la génération d'un plasma H05G 2/00); PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS (obtention de neutrons à partir de sources radioactives G21, p.ex. G21B, G21C, G21G); PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES (horloges atomiques G04F 5/14; dispositifs utilisant l'émission stimulée H01S; régulation de fréquence par comparaison avec une fréquence de référence déterminée par les niveaux d'énergie de molécules, d'atomes ou de particules subatomiques H03L 7/26) |
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| Notes |
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| (1) | La présente sous-classe couvre: |
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| (a) | de la production ou de la manipulation du plasma; |
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| (b) | des dispositifs non couverts par la sous-classe H01J, et dans lesquels des électrons, des faisceaux d'ions ou des particules neutres sont accélérés vers les hautes énergies; |
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| (c) | des dispositifs destinés à produire des faisceaux de particules neutres; [3] |
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| (d) | des cibles relatives aux objets (a), (b) ou (c). [3] |
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| (2) | Il est important de tenir compte de la sous-classe G21K. [3] |
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| Schéma général |
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| TECHNIQUE DU PLASMA |
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| PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX DE PARTICULES NEUTRES |
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| CIBLES POUR LA PRODUCTION DE RÉACTIONS NUCLÉAIRES |
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| ACCÉLÉRATEURS |
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| A tension continue ou monopulsés |
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| Linéaires; à induction magné- tique; à résonance magnétique |
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| Autres |
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| Détails |
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1/ | 00 | Production du plasma; Mise en œuvre du plasma |
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1/ | 02 | . | Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiques; Dispositions pour chauffer le plasma (optique électronique H01J) |
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1/ | 03 | . | . | utilisant des champs électrostatiques [3] |
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1/ | 04 | . | . | utilisant des champs magnétiques essentiellement engendrés par la décharge dans le plasma |
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1/ | 06 | . | . | . | Dispositifs de pinçage longitudinal |
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1/ | 08 | . | . | . | Dispositifs de pinçage thêta |
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1/ | 10 | . | . | utilisant uniquement des champs magnétiques appliqués |
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1/ | 11 | . | . | . | utilisant une configuration en aiguille (H05H 1/14 a priorité) [3] |
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1/ | 12 | . | . | . | dans lesquels l'enceinte forme une boucle fermée |
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1/ | 14 | . | . | . | dans lesquels l'enceinte est droite et comporte un miroir magnétique |
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1/ | 16 | . | . | utilisant des champs électriques et magnétiques |
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1/ | 18 | . | . | . | dans lesquels les champs oscillent à très haute fréquence, p.ex. dans la bande des micro-ondes |
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1/ | 20 | . | . | Chauffage ohmique |
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1/ | 22 | . | . | pour chauffage par injection |
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1/ | 24 | . | Production du plasma [2] |
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1/ | 26 | . | . | Torches à plasma [2] |
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1/ | 28 | . | . | . | Dispositions pour le refroidissement [3] |
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1/ | 30 | . | . | . | utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes (H05H 1/28 a priorité) [3] |
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1/ | 32 | . | . | . | utilisant un arc (H05H 1/28 a priorité) [3] |
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1/ | 34 | . | . | . | . | Détails, p.ex. électrodes, buses [3] |
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1/ | 36 | . | . | . | . | . | Dispositions des circuits (H05H 1/38, H05H 1/40 ont priorité) [3] |
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1/ | 38 | . | . | . | . | . | Guidage ou centrage des électrodes [3] |
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1/ | 40 | . | . | . | . | . | utilisant des champs magnétiques appliqués, p.ex. pour focaliser ou pour faire tourner l'arc [3] |
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1/ | 42 | . | . | . | . | avec des dispositions pour l'introduction des matériaux dans le plasma, p.ex. de la poudre, du liquide (pulvérisation électrostatique, appareils de pulvérisation comportant des moyens pour charger électriquement le pulvérisat B05B 5/00) [3] |
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1/ | 44 | . | . | . | . | utilisant plusieurs torches [3] |
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1/ | 46 | . | . | utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes (H05H 1/26 a priorité) [3] |
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1/ | 48 | . | . | utilisant un arc (H05H 1/26 a priorité) [3] |
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1/ | 50 | . | . | . | et utilisant des champs magnétiques appliqués, p.ex. pour focaliser ou pour faire tourner l'arc [3] |
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1/ | 52 | . | . | utilisant des fils explosifs ou des éclateurs (H05H 1/26 a priorité; éclateurs en général H01T) [3] |
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1/ | 54 | . | Accélérateurs de plasma [3] |
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3/ | 00 | Production ou accélération de faisceaux de particules neutres, p.ex. de faisceaux moléculaires ou atomiques [3] |
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3/ | 02 | . | Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p.ex. d'un faisceau résonnant (masers à gaz H01S 1/06) [3] |
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3/ | 04 | . | Accélération par la pression d'une onde électromagnétique [3] |
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3/ | 06 | . | Production de faisceaux de neutrons (cibles pour la production de réactions nucléaires H05H 6/00; sources de neutrons G21G 4/02) [5] |
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5/ | 00 | Accélérateurs à tension continue; Accélérateurs monopulsés (H05H 3/06 a priorité) [5] |
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5/ | 02 | . | Détails (cibles pour la production de réactions nucléaires H05H 6/00) [3] |
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5/ | 03 | . | . | Tubes accélérateurs (enceintes ou récipients de tubes à décharge comportant une distribution de potentiel perfectionnée à la surface de l'enceinte H01J 5/06; blindages de tubes à rayons X associés avec des enceintes ou des récipients H01J 35/16) [4] |
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5/ | 04 | . | alimentés par des générateurs électrostatiques, p.ex. générateur de Van de Graaff [4] |
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5/ | 06 | . | Accélérateurs en série; Accélérateurs à étages multiples |
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5/ | 08 | . | Accélérateurs de particules utilisant des transformateurs élévateurs, p.ex. transformateurs accordés [4] |
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6/ | 00 | Cibles pour la production de réactions nucléaires (supports pour cibles ou objets à irradier G21K 5/08) [3] |
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7/ | 00 | Détails des dispositifs des types couverts par les groupes H05H 9/00 à H05H 13/00 (cibles pour la production de réactions nucléaires H05H 6/00) [3] |
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7/ | 02 | . | Circuits ou systèmes d'alimentation en énergie haute fréquence (générateurs haute fréquence H03B) |
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7/ | 04 | . | Systèmes à aimants; Leur excitation |
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7/ | 06 | . | Dispositions à deux faisceaux; Dispositions multifaisceaux |
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7/ | 08 | . | Dispositions pour placer des particules sur leurs orbites |
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7/ | 10 | . | Dispositions pour extraire des particules de leurs orbites |
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7/ | 12 | . | Dispositions pour faire varier l'énergie finale d'un faisceau |
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7/ | 14 | . | Chambres à vide (H05H 5/03 a priorité) [4] |
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7/ | 16 | . | . | du type guide d'onde [4] |
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7/ | 18 | . | . | Cavités; Résonateurs [4] |
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7/ | 20 | . | . | . | avec des parois supraconductrices [4] |
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7/ | 22 | . | Détails d'accélérateurs linéaires, p.ex. tubes de glissement (H05H 7/02 à H05H 7/20 ont priorité) [4] |
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9/ | 00 | Accélérateurs linéaires (H05H 11/00 a priorité) |
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9/ | 02 | . | Accélérateurs linéaires à ondes progressives |
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9/ | 04 | . | Accélérateurs linéaires à ondes stationnaires |
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11/ | 00 | Accélérateurs à induction magnétique, p.ex. bêtatrons |
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11/ | 02 | . | Bêtatrons à noyau à air |
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11/ | 04 | . | Bêtatrons avec champ magnétique continu superposé |
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13/ | 00 | Accélérateurs à résonance magnétique; Cyclotrons |
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13/ | 02 | . | Synchrocyclotrons, c. à d. cyclotrons modulés en fréquence |
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13/ | 04 | . | Synchrotrons |
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13/ | 06 | . | Accélérateurs à résonance magnétique à noyau à l'air |
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13/ | 08 | . | Accélérateurs à résonance magnétique à gradient alternatif |
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13/ | 10 | . | Accélérateurs comprenant une ou plusieurs sections d'accélération linéaire et des aimants de courbure ou des dispositifs analogues pour faire revenir les particules chargées sur une trajectoire parallèle à la première section d'accélération, p.ex. microtrons [4] |
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15/ | 00 | Méthodes ou dispositifs pour accélérer des particules chargées non prévus ailleurs [4] |
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